Установка импульсно-плазменного распыления с лазерным поджигом
Назначение и технические характеристики
Принцип работыу становки заключается в создании тлеющего разряда между водоохлаждаемым анодом и мишенью за счет энергии конденсаторной батареи необходимой емкости. В качестве рабочей средыиспо льзуется небольшое количество паров, создаваемое предварительным испарением мишени с помощью лазера ЛТИ-207. Бомбардировка отрицательно заряженной мишени ионами плазмыв о время ее жизни приводит к распылению мишени.
Установка выполнена на базе сверхвысоковакуумного поста УСУ-4; необходимые условия работы обеспечиваются оптической системой и нагревателем подложки. Разряд осуществляется в скрещенных магнитном и электрическом полях.
Метод позволяет осуществить:
- скорость конденсации (>10 нм/с) в импульсе длительностью ~10 с;
- отвод тепла от конденсата со скоростью охлаждения ~10 К/с;
- процесс ионно-плазменного распыления без рабочего газа;
- сплошность конденсата наступает с h = 2 нм на начальной стадии роста (ряды 1 и 2 на зависимости ρ(h )).
|